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J-GLOBAL ID：200903094371963570

磁気ディスク媒体の製造方法

Inventor： 馬場 靖男
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社
Agent (1)： 石田 敬 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999328669
Publication number (International publication number)：2001056931
Application date： Nov. 18, 1999
Publication date： Feb. 27, 2001
Summary：

【要約】【課題】 DLC保護膜を有する磁気ディスク媒体の表面層にイオン注入を行って、その磁性膜の磁気特性を有為に劣化させることなくDLC保護膜の摩擦係数を有効に低減させることのできる、磁気ディスク媒体の製造方法を提供する。また、DLC保護膜を備えたディスク媒体の熱処理により劣化したDLC保護膜の膜質の回復を可能にする磁気ディスク媒体の製造方法を提供する。【解決手段】 DLC保護膜を有する磁気ディスク媒体の表面層に、炭素を含む分子イオンを注入することを含む、磁気ディスク媒体の製造方法。また、低温で成膜した高K磁性材料膜を有する磁気ディスク媒体を、磁性膜上にDLC保護膜を被着させて熱処理し、次いで表面層に炭素を含む分子イオンを注入することを含む、磁気ディスク媒体の製造方法。好ましい注入分子イオンはCm Hn + (mおよびnはそれぞれ1以上の整数を表す)で表される。

Claim (excerpt)：

ダイアモンドライクカーボン保護膜を有する磁気ディスク媒体の表面層に、炭素を含む分子イオンをイオン注入することを含む、磁気ディスク媒体の製造方法。

IPC (2)：

G11B 5/84 ,  G11B 5/72

FI (2)：

G11B 5/84 B ,  G11B 5/72

F-Term (11)：

5D006AA02 ,  5D006AA05 ,  5D006BB01 ,  5D006BB07 ,  5D112AA05 ,  5D112AA07 ,  5D112AA24 ,  5D112BB01 ,  5D112BB06 ,  5D112BC05 ,  5D112GA23