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J-GLOBAL ID:200903094374870220

渦流攪拌装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 瀬川 幹夫
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000020945
Publication number (International publication number):2001205063
Application date: Jan. 28, 2000
Publication date: Jul. 31, 2001
Summary:
【要約】【課題】 狭いスペースに安価に設置できて動力費も掛らない上に、複数の流体の充分な接触状態と滞留時間が確保されて、混合・中和・反応等の処理を完全に達成することが可能な渦流攪拌装置を提供する。【解決手段】 タンクの内部に旋回しながら上昇する流体の渦流を発生させて、この渦流により流体の攪拌を行わせる渦流攪拌装置であって、流体の旋回流動を起させ易い断面形状のタンク1が直立状に設けられ、このタンク1の下部には、タンク1の内周に沿って流体が吹き込まれるよう吹込管2を接続して、該吹込管2からタンク1内へ流体が吹き込まれると、タンク1の内部に下部から上部へと流体が旋回しながら上昇する渦流が発生するようにする。
Claim (excerpt):
タンクの内部に旋回しながら上昇する流体の渦流を発生させて、この渦流により流体の攪拌を行わせる渦流攪拌装置であって、流体の旋回流動を起させ易い断面形状のタンクが直立状に設けられ、このタンクの下部には、タンクの内周壁に沿って流体が吹き込まれるよう吹込管を接続して、該吹込管からタンク内へ流体が吹き込まれると、タンクの内部に下部から上部へと流体が旋回しながら上昇する渦流が発生するようにしたことを特徴とする渦流攪拌装置。
F-Term (2):
4G035AC44 ,  4G035AE13
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
  • 特開昭50-022769
  • 特開昭57-012822
  • 混合液分離装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平5-232586   Applicant:岡上公彦

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