Pat
J-GLOBAL ID：200903094385368747
パターン形成方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
早瀬 憲一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991242766
Publication number (International publication number)：1993055123
Application date： Aug. 27, 1991
Publication date： Mar. 05, 1993
Summary：
【要約】【目的】 試料上に形成されるパターンの寸法精度を向上させる。【構成】 描画フィールド面内の荷電ビームの偏向収差量の分布を測定し、上記測定された荷電ビームの偏向収差量の分布から描画フィールド内の寸法ばらつきを補正するための補正テーブルを作成し、上記補正テーブルを用いて荷電ビーム露光でパターン形成を行う。【効果】 上記補正テーブルを用いて荷電ビーム露光を行うことにより、描画フィールド内の寸法ばらつきが低減され、その結果、試料内に形成されるパターンの寸法精度を向上させる効果を奏する。
Claim (excerpt)：
荷電ビーム露光を用いたパターン形成方法において、描画フィールド内の荷電ビームの偏向収差量の分布を測定し、上記測定された荷電ビームの偏向収差量の分布から描画フィールド内の寸法ばらつきを補正するための補正テーブルを作成し、上記補正テーブルを用いて荷電ビーム露光を行うことを特徴とするパターン形成方法。
FI (2)：
H01L 21/30 341 M
, H01L 21/30 341 Q
