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J-GLOBAL ID：200903094392736115

熱処理装置および熱処理方法

Inventor： 村岡 祐介
Applicant, Patent owner： 大日本スクリーン製造株式会社
Agent (1)： 吉田 茂明 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997304095
Publication number (International publication number)：1999145073
Application date： Nov. 06, 1997
Publication date： May. 28, 1999
Summary：

【要約】【課題】 ランプからの光照射による基板の熱処理装置において、基板の熱分布の均一性を確保するとともに、ランプ劣化を早期に発見すること。【解決手段】 複数の球状ランプBL1〜BL4を、基板Wの中心から外縁に向かう方向に配列し、基板Wを高速回転させる。各エリアA1〜A4は対応する球状ランプBL1〜BL4からの光によって熱走査される。エリアA1〜A4は同心円状であるため、球状ランプBL1〜BL4への発光電力を個別に調整することにより、基板で生じやすい同心円状の温度分布を有効に補償可能である。また、球状ランプBL1〜BL4のそれぞれの近傍に光センサを配置しておくことにより、そのランプが劣化し始めたかを早期に知ることができる。

Claim (excerpt)：

光の照射によって基板の熱処理を行う装置であって、(a) 前記基板を保持する基板保持手段と、(b) 前記基板に対向して配置され、前記基板の中心から外縁に向かう方向に配列した複数の発光体を有し、前記複数の発光体からの光で前記基板の被照射面のうちの一部に光を照射する光照射手段と、(c) 前記発光体ごとまたは前記複数の発光体の部分集合ごとに、各発光体からの発光量を調整する発光量調整手段と、(d) 前記基板保持手段と前記光照射手段とを相対的に回転させる回転手段と、を備え、前記複数の発光体からの光で、前記基板の被照射面を同心状に覆う複数のエリアのそれぞれを回転走査することを特徴とする熱処理装置。

FI (2)：

H01L 21/26 T ,  H01L 21/26 J