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J-GLOBAL ID：200903094392749667
位相シフトマスク及びその製造方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
鈴木 章夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992215786
Publication number (International publication number)：1994043626
Application date： Jul. 22, 1992
Publication date： Feb. 18, 1994
Summary：
【要約】【目的】 透明基板に形成した位相シフトマスクにおいて、遮光膜の端部における不本意な光の透過を防止し、かつ一方では遮光膜の破損を防止する。【構成】 透明基板1と、遮光膜4との間に膜厚tが、t=λ/2(n-1)である(但し、λは露光光の波長、nは透明膜の屈折率)パターニングされた透明膜3を有する位相シフトマスクにおいて、透明膜3の端部を遮光膜4の端部よりもt/4からt/3だけ内側に位置させ、遮光膜4の端部を通る光が透明膜3により回折等の影響を受けないようにする。
Claim (excerpt)：
透明基板と、遮光膜との間に膜厚tが、t=λ/2(n-1)である(但し、λは露光光の波長、nは透明膜の屈折率)パターニングされた透明膜を有する位相シフトマスクにおいて、前記透明膜の端部を前記遮光膜の端部よりもt/4からt/3だけ内側に位置させたことを特徴とする位相シフトマスク。
IPC (2)：
FI (2)：
H01L 21/30 301 P
, H01L 21/30 311 W
