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J-GLOBAL ID：200903094410538440

二酸化塩素ガスの制御された放出を行うための方法、組成物及びシステム

Inventor： スペロネロ,バリー・ケイ ,  サンガライ,アツパドウライ ,  ヤング,ザイアリン
Applicant, Patent owner： エンゲルハード・コーポレーシヨン
Agent (1)： 小田島 平吉 (外1名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：1998538626
Publication number (International publication number)：2001516213
Application date： Feb. 27, 1998
Publication date： Sep. 25, 2001
Summary：

【要約】少なくとも一つの金属亜塩素酸塩及び水蒸気の存在下では金属亜塩素酸塩と反応して、二酸化塩素ガスを生成し得るが、液体の水または水蒸気が実質的に存在しない場合には反応し得ない、乾燥した、固体親水性材料を合体し、約0.001から1,000ppmの維持量で二酸化塩素ガスを生成させる二酸化塩素ガスの制御された放出を行うための方法、組成物及びシステム。

Claim (excerpt)：

a)少なくとも一つの金属亜塩素酸塩及び水蒸気の存在下では金属亜塩素酸塩と反応して、二酸化塩素ガスを生成し得るが、液体の水または水蒸気が実質的に存在しない場合には反応し得ない、少なくとも一つの乾燥した、固体親水性材料である第2の材料を合体し、b)上記混合物を水蒸気を含有する雰囲気に暴露して、上記雰囲気の約0.001から1,000ppmの維持された量で二酸化塩素ガスを生成させることからなる二酸化塩素ガスを制御された放出の方法で発生させる方法。

IPC (8)：

A23L 3/358 ,  A01N 59/00 ,  A61L 2/06 ,  A61L 2/20 ,  A61L 9/01 ,  C01B 11/02 ,  C02F 1/50 510 ,  C02F 1/50 531

FI (9)：

A23L 3/358 ,  A01N 59/00 Z ,  A61L 2/06 Z ,  A61L 2/20 Z ,  A61L 2/20 A ,  A61L 9/01 F ,  C01B 11/02 F ,  C02F 1/50 510 A ,  C02F 1/50 531 M

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 特開昭60-161307