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J-GLOBAL ID：200903094463282072
ミクロトーム用ナイフ親水化処理方法及び装置
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
蛭川 昌信 (外7名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991158329
Publication number (International publication number)：1993005682
Application date： Jun. 28, 1991
Publication date： Jan. 14, 1993
Summary：
【要約】【目的】 親水化剤を使用せずに短時間で容易に親水化処理する。【構成】 炭素またはアルミニウムターゲットを入れた真空容器内で、ターゲット電流250〜300V、イオン電流3〜5mA、放電時間5〜20sec、真空度ほぼ10PAの条件でグロー放電を起こさせて親水化を行う。
Claim (excerpt)：
真空容器内の放電電極上に炭素またはアルミニウムをターゲット材として配置するとともに、ミクロトーム用ナイフを配置し、前記放電電極間に電圧を印加してグロー放電を生じさせ、ミクロトーム用ナイフを親水化することを特徴とするミクロトーム用ナイフ親水化処理方法。
Patent cited by the Patent：
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