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J-GLOBAL ID：200903094499494556

パターン化された複合酸化物膜の製造方法

Inventor： 中山 尚美 ,  西野 俊夫 ,  辻 清治 ,  林 政克 ,  山田 順子 ,  藤島 正之
Applicant, Patent owner： 三田工業株式会社
Agent (1)： 亀井 弘勝 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995313085
Publication number (International publication number)：1997156927
Application date： Nov. 30, 1995
Publication date： Jun. 17, 1997
Summary：

【要約】【課題】 最小限のマスク材で、またはマスク材を使用しないで、基板上に所望の膜厚の複合酸化物膜を形成することができる、パターン化された複合酸化物膜の製造方法を提供することである。。【解決手段】 基板上に第1の複合酸化物膜を作製後、マスク材を除去し、酸化処理して、基板表面に酸化皮膜を形成し、ついで第2の複合酸化物膜を形成するにあたり、前記基板の少なくとも最表面層が前記第2の複合酸化物の構成金属元素のうちの1つの金属元素からなり、前記第2の複合酸化物膜がこの複合酸化物膜を構成する全ての金属元素を含むアルカリ性水溶液を用いる水熱反応により形成される。

Claim (excerpt)：

基板上に第1の複合酸化物膜を形成する工程と、前記第1の複合酸化物膜が形成されていない部位の基板表面を酸化処理する工程と、前記基板の表面に第2の複合酸化物膜を形成する工程とを含み、前記基板の少なくとも最表面層が前記第2の複合酸化物の構成金属元素のうちの1つの金属元素からなり、前記第2の複合酸化物膜がこの複合酸化物膜を構成する全ての金属元素を含むアルカリ性水溶液を用いる水熱反応により形成されることを特徴とする、パターン化された複合酸化物膜の製造方法。

IPC (5)：

C01G 25/00 ,  B01J 19/00 ,  C04B 35/49 ,  H01L 41/187 ,  H01L 41/24

FI (5)：

C01G 25/00 ,  B01J 19/00 K ,  C04B 35/49 A ,  H01L 41/18 101 B ,  H01L 41/22 A