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J-GLOBAL ID：200903094558089733

基板処理装置

Inventor： 下村 辰美 ,  土屋 昭夫
Applicant, Patent owner： 大日本スクリーン製造株式会社
Agent (1)： 稲岡 耕作 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996314951
Publication number (International publication number)：1998151403
Application date： Nov. 26, 1996
Publication date： Jun. 09, 1998
Summary：

【要約】【課題】処理液の供給に関連する構成部分のコストを削減すること。処理液の供給の開始/停止を迅速に検知すること。【解決手段】薬液導入路55に流量計Mが設けられており、薬液導入路55に分岐接続された複数の薬液供給路P1,P2,・・・・・・には、それぞれニードルバルブNV1,NV2,・・・・・・およびセンサ付きエア弁AV1,AV2,・・・・・・が介装されている。エア弁AV1,AV2,・・・・・・は、その開閉動作を直接的に検知するフォトマイクロセンサを備えている。【効果】エア弁に設けられたセンサによって弁の動作を検知できるので、弁動作の検知のための圧力センサなどを個々の処理液供給路に設ける必要がない。また、個々のニードルバルブをあらかじめ調整しておけば、流量計Mが計測する総流量に基づいて、個々の薬液供給路における流量を求めることができる。

Claim (excerpt)：

基板に対して処理を施すための処理液を処理液供給源から導く処理液導入路と、この処理液導入路の上記処理液供給源とは反対側に分岐接続され、基板に対して上記処理液を供給するための複数の処理液供給路と、上記複数の処理液供給路のそれぞれに介装され、基板に対する処理液の供給を開始するために開成され、基板に対する処理液の供給を停止するために閉成される処理液供給弁と、この処理液供給弁に設けられ、この処理液供給弁の開閉動作を検出するための弁動作検出手段とを含むことを特徴とする基板処理装置。

IPC (3)：

B05C 11/10 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/304 341

FI (4)：

B05C 11/10 ,  H01L 21/304 341 N ,  H01L 21/30 564 C ,  H01L 21/30 569 C