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J-GLOBAL ID：200903094581727216

電子サイクロトロン共鳴プラズマCVD装置

Inventor： 竹内 良昭 ,  村田 正義
Applicant, Patent owner： 三菱重工業株式会社
Agent (1)： 鈴江 武彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992253141
Publication number (International publication number)：1994101051
Application date： Sep. 22, 1992
Publication date： Apr. 12, 1994
Summary：

【要約】【目的】 大面積の基板に一様な厚みの薄膜を形成でき、しかも低コストの電子サイクロトロン共鳴プラズマCVD装置を提供する。【構成】 マイクロ波発振器、方向性結合器、ボールアンテナ、同軸管、プラズマ生成用アンテナ、プラズマ生成室、反応容器、磁気コイルを有し、プラズマ生成用アンテナにマイクロ波を供給することによりプラズマを発生させる電子サイクロトロン共鳴プラズマCVD装置において、プラズマ生成用アンテナを、平面的に屈曲され互いに平行に配置された2本の線材で構成し、一方の線材を同軸管の芯線と接続し、他方の線材を同軸管の外管部と接続するとともに、2本の線材の一端または両端を短絡させる。

Claim (excerpt)：

マイクロ波発振器、方向性結合器、ボールアンテナ、同軸管、プラズマ生成用アンテナ、プラズマ生成室、反応容器、磁気コイルを有し、プラズマ生成用アンテナにマイクロ波を供給することによりプラズマを発生させる電子サイクロトロン共鳴プラズマCVD装置において、上記プラズマ生成用アンテナを、平面的に屈曲され互いに平行に配置された2本の線材で構成し、一方の線材を上記同軸管の芯線と接続し、他方の線材を上記同軸管の外管部と接続するとともに、上記2本の線材の一端または両端を短絡させたことを特徴とする電子サイクロトロン共鳴プラズマCVD装置。

IPC (3)：

C23C 16/50 ,  C30B 25/02 ,  C30B 29/04