Pat
J-GLOBAL ID:200903094612720460
磁気記録媒体、金属ガラス基板、磁気記録媒体の製造方法、ナノ金型の製造方法および金属ガラス基板の製造方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
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Agent (1):
永井 冬紀
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2006317543
Publication number (International publication number):2008130210
Application date: Nov. 24, 2006
Publication date: Jun. 05, 2008
Summary:
【課題】記録密度の向上を図ることができる磁気記録媒体の提供。【解決手段】基板11に金属ガラス層13を形成し、その金属ガラス層13を過冷却液体領域温度に保ちつつ金型2を押圧し、金属ガラス層13に金型2の成形転写面に形成された凸凹形状を金属ガラス層13に転写する。形成された凹部130内に磁性体を埋め込んだり、凸部132上に磁性体を蒸着することにより、磁気的に孤立化された磁性ドットが形成された磁気記録媒体が得られる。金属ガラス層13に凹凸形状をナノインプリンティングすることで、非常に微細な凹凸形状を形成することができ、磁気記録媒体の記録密度の向上を図ることができる。【選択図】図2
Claim (excerpt):
基板と、
前記基板上に設けられ、複数の凹部が形成された金属ガラス層と、
前記複数の凹部の各々に配設された磁性体とを備えることを特徴とする磁気記録媒体。
IPC (7):
G11B 5/73
, G11B 5/82
, G11B 5/667
, G11B 5/84
, G11B 5/706
, G11B 5/851
, G11B 5/842
FI (7):
G11B5/73
, G11B5/82
, G11B5/667
, G11B5/84 A
, G11B5/706
, G11B5/851
, G11B5/842 Z
F-Term (20):
5D006BA08
, 5D006BB05
, 5D006CA03
, 5D006CB04
, 5D006CB07
, 5D006CB08
, 5D006DA03
, 5D006DA04
, 5D112AA02
, 5D112AA04
, 5D112AA05
, 5D112AA18
, 5D112BA03
, 5D112BA06
, 5D112BA09
, 5D112BB02
, 5D112BB06
, 5D112BD02
, 5D112FA04
, 5D112GB05
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (9)
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磁気記録媒体とその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-299583
Applicant:松下電器産業株式会社
-
磁気記録媒体およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-288560
Applicant:富士写真フイルム株式会社
-
金属ガラス積層体からなる金型成形体、及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-310862
Applicant:国立大学法人東北大学, トピー工業株式会社
-
特開平1-243225
-
ガラス金属ディスク
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-052133
Applicant:マーベルワールドトレードリミテッド
-
軟磁性Co基金属ガラス合金
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-108352
Applicant:科学技術振興事業団
-
パターン形成方法及びその装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-318213
Applicant:セイコーインスツルメンツ株式会社
-
パターン書き込み方法及びその装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-154488
Applicant:インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション, オルセー・フィジック
-
微小立体構造物、その製造方法及びその製造装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-286337
Applicant:科学技術振興事業団
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