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J-GLOBAL ID：200903094637377426

投影型露光装置

Inventor： 谷元 昭一
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992107423
Publication number (International publication number)：1993251303
Application date： Apr. 27, 1992
Publication date： Sep. 28, 1993
Summary：

【要約】【目的】 高い再現性をもって投影性能の調整が可能な投影型露光装置を得る。【構成】 レチクル5上の予め定められた複数の位置の夫々に形成されたマークMijが投影レンズ6を介して像面内に投影されるべき各位置Tijを、CPU30はレーザ干渉計13、34と、ステージ7に設けられた微小開口8、光電検出器9とを用いて順次測定する。さらに、レチクル5上の各マークの配置関係(位置Pij)と先に測定した各マークの位置Tijとに基づいて、投影レンズ6による投影倍率、もしくは歪曲収差に対応した値(N、又はαij、βij)を算出する。そして、この算出された値に基づいて投影レンズ6を構成する一部の光学要素(レンズ)の位置を調整する。

Claim (excerpt)：

マスクに形成されたパターンを所定の像面内に結像する投影光学系と、感応性基板を前記像面とほぼ一致するように保持するとともに、前記像面とほぼ平行な面内で2次元移動させるステージと、該ステージの座標位置を計測する位置計測手段とを備えた投影型露光装置において、前記マスクのパターンとして予め定められた複数の位置の夫々に形成されたマークが前記投影光学系を介して前記像面内に投影されるべき各位置を、前記位置計測手段と共同して順次測定するマーク位置測定手段と;前記マスク上の各マークの配置関係と前記マーク位置測定手段によって測定された各測定位置とに基づいて、投影倍率、もしくは歪曲収差に関連した値を算出する演算手段と;該演算手段によって算出された値に基づいて前記投影光学系を構成する一部の光学要素の位置を調整する手段とを備えたことを特徴とする投影型露光装置。

IPC (2)：

H01L 21/027 ,  G03F 9/00

FI (2)：

H01L 21/30 311 L ,  H01L 21/30 311 N