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J-GLOBAL ID：200903094637396277

回路パターン欠陥検出装置およびその方法並びにイメージセンサ

Inventor： 前田 俊二 ,  窪田 仁志 ,  牧平 坦 ,  広井 高志
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993031573
Publication number (International publication number)：1994241744
Application date： Feb. 22, 1993
Publication date： Sep. 02, 1994
Summary：

【要約】【目的】本発明の目的は、被検査対象パターンの画像を欠陥検出に耐えうるように、高精度に検出することにある。これにより、LSIの微細化、大面積化、多層化に対応して、被検査対象パターン上の超微小欠陥を短時間で高精度に検出できるようにする。【構成】検出画素が隣接する検出画素と互いに重複する領域をもつことを許す構成として、被検査対象パターンの濃淡画像を検出するようにしたイメージセンサを用いた検査装置。【効果】検出画素間隔で決まるより小さい単位での高精度な画像位置合せや、濃淡の比較を行うことができ、これにより、0.1〜0.3μm程度の微小な欠陥まで検出することが可能となる。

Claim (excerpt)：

被検査対象の回路パターンについて、複数式の受光部配列を有するイメージセンサにより検出画素が隣接する検出画素と互いに重複する領域をもつ画像信号を検出する画像検出手段と、該画像検出手段で検出された画像信号と基準画像信号とを比較して回路パターンの欠陥を検出する検出手段とを備えたことを特徴とする回路パターン欠陥検出装置。

IPC (6)：

G01B 11/24 ,  G01N 21/88 ,  G06F 15/62 405 ,  G06F 15/64 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/66