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J-GLOBAL ID:200903094639588106

パターン認識方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 菊谷 公男 (外3名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995079689
Publication number (International publication number):1996249466
Application date: Mar. 11, 1995
Publication date: Sep. 27, 1996
Summary:
【要約】【目的】 線画パターンでも参照パターンとの類似度が効率よく求められ、また、画像に影などができても精度よく認識する。【構成】 ステップS1において、認識対象パターンと参照パターンの各画像データについて垂直微分と水平微分を行ない、S2のように、垂直および水平の各微分値をもった認識対象画像および参照画像の各微分画像を設定する。ステップS3で、各微分画像を比較対象として、正規化相関によるマッチング処理を行ない相互の類似度を求める。微分画像を用いるので、画像の明るさに関係なく、画像上のパターンのエッジ部分が強調されるから、線画でも容易に認識される。また、認識対象画像に影が加わっても微分画像では影の境の部分が多少異なる程度で、参照画像とほとんど差異のない画像が得られ、影の影響を受けない。
Claim (excerpt):
多値画像の認識対象パターンを参照パターンと比較するパターン認識方法であって、認識対象画像および参照画像それぞれの各ドットにおける垂直および水平微分を行なって微分画像を求め、その微分画像間の正規化相関を求めることにより、参照パターンと認識対象パターンの類似度を得ることを特徴とするパターン認識方法。
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
  • 画像処理方法および装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平3-237456   Applicant:株式会社ニコン
  • 特開昭61-026191
  • 特開昭63-088684

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