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J-GLOBAL ID：200903094672729548

紫外線レーザ用石英ガラス光学部材の製造方法

Inventor：
藤ノ木 朗

About 藤ノ木 朗

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西村 裕幸

About 西村 裕幸

, 
森 利樹

About 森 利樹


Applicant, Patent owner：
信越石英株式会社

About 信越石英株式会社


Agent (1)： 高橋 昌久 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995306438
Publication number (International publication number)：1997124337
Application date： Oct. 31, 1995
Publication date： May. 13, 1997
Summary：
【要約】【課題】 酸水素炎による合成石英ガラス製造時に発生する水素起因欠陥若しくは高温水素処理によって生じる水素起因欠陥を除去し、波長193nmのArFエキシマレーザー、波長213nmのYAGレーザーの5倍高調波に対して優れた安定性を有する紫外線レーザー光学用合成石英ガラス部材を提供することにある。【解決手段】 本発明は、石英ガラス光学部材に前記波長の短いレーザーの照射に耐えられるように2×1017分子/cm3以上5×1019分子/cm3以下の、好ましくは5×1017分子以上5×1018分子/cm3以下の水素分子を合成石英ガラスの製造時、及び/又は後工程でドーピングする工程と、このとき水素によって生じる還元性の欠陥を波長150nmないし300nmの紫外線の照射によって石英ガラスの構造を破壊することなく除去する事によって、前記レーザーの照射に対しても耐性の強い石英ガラスを得るものである。
Claim (excerpt)：
合成石英ガラス中に2×1017分子/cm3以上5×1019分子/cm3以下の水素を含有する工程と、該水素ガスを含有した石英ガラス部材に波長150nmないし300nmの範囲内の紫外線を、該石英ガラス部材の照射表面における照度として少なくとも1μW/cm2以上、100W/cm2以下のエネルギーで20時間以上照射する工程と、を含むことを特徴とする紫外線レーザ用石英ガラス光学部材の製造方法。
IPC (3)：
C03C 3/06 ,  C03B 20/00 ,  H01S 3/17
FI (3)：
C03C 3/06 ,  C03B 20/00 ,  H01S 3/17
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (2)

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