Pat
J-GLOBAL ID:200903094684553429

ガス処理装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 志賀 正武 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995304842
Publication number (International publication number):1997141045
Application date: Nov. 22, 1995
Publication date: Jun. 03, 1997
Summary:
【要約】【課題】 小型軽量且つ簡易な構成で各種有害気体の分解処理が可能で、しかも消費電力が小さく、且つ副生成物が少なく除去も容易であるガス処理装置を提供する。【解決手段】 制御パルスPを微分して三極管5に入力し、三極管5は微分されたパルスP'に基づいて高圧電源Eを断続させて、コロナ放電器6にパルスPcを供給する。またコロナ放電器6内では、複数の突起を有した第1の電極と、これに離間して対向する平面状の第2の電極との間に気体ならびに液体を通過させ、両電極間にパルスPcを供給することでインパルスコロナ放電が生じ、気体中の有害成分が分解され、同時に液体中に濃縮された副生成物が生じる。
Claim (excerpt):
高圧直流(E)を供給する高圧直流電源手段(4)と、前記高圧直流を断続させて高圧パルス(Pc)を出力するスイッチング手段(5)と、前記スイッチング手段に制御パルス(P)を供給する制御パルス発生手段(1)と、前記制御パルス発生手段と前記スイッチング手段との間に挿入され前記制御パルスを微分する微分手段(C1R1R2)と、前記高圧パルスを入力してコロナ放電を発生するコロナ放電手段(6)とを具備することを特徴とするガス処理装置。
IPC (3):
B01D 53/32 ZAB ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01J 19/08
FI (3):
B01D 53/32 ZAB ,  B01J 19/08 C ,  B01D 53/34 ZAB Z
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
Show all

Return to Previous Page