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J-GLOBAL ID：200903094708567817

メソポーラス無機高分子の製造方法

Inventor： 鹿川 修一 ,  寺岡 靖剛 ,  瀬戸口 由加子 ,  森口 勇 ,  朝長 成之 ,  泉 順 ,  安武 昭典
Applicant, Patent owner： 三菱重工業株式会社
Agent (1)： 内田 明 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996192162
Publication number (International publication number)：1998036109
Application date： Jul. 22, 1996
Publication date： Feb. 10, 1998
Summary：

【要約】【課題】 ミセルを形成する有機テンプレートを使用するメソポーラス無機化合物の製造方法において、安価な原料を用いて低温で合成でき、しかも有機テンプレートの除去が容易で回収再使用することができるメソポーラス無機化合物の製造方法を提供すること。【解決手段】 無機のSi化合物からなるシリカ源の水溶液と有機物の水溶液又は無機のSi化合物からなるシリカ源とアルミナ源との混合物の水溶液と有機物の水溶液を温度20〜100°Cの条件下で混合し、シリカ源のみの場合はpH0〜12、シリカ源とアルミナ源の場合はpH6〜12、温度20〜100°Cの条件下でかき混ぜて晶析反応を行わせた後、固形物をろ過水洗、乾燥し、得られた有機物を含有する珪酸高分子又はアルミノ珪酸高分子から有機物を除去することを特徴とするメソポーラス無機高分子の製造方法。

Claim (excerpt)：

無機のSi化合物からなるシリカ源の水溶液と有機物の水溶液を温度20〜100°Cの条件下で混合し、pH0〜12、温度20〜100°Cの条件下でかき混ぜて晶析反応を行わせた後、固形物をろ過水洗、乾燥し、得られた有機物を含有する珪酸高分子から有機物を除去することを特徴とするメソポーラス無機高分子の製造方法。

IPC (3)：

C01B 33/12 ,  B01J 20/10 ,  B01J 21/12

FI (3)：

C01B 33/12 Z ,  B01J 20/10 Z ,  B01J 21/12 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• メソポーラスシリカおよびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-027310   Applicant：日本化学工業株式会社
• メソポーラスアルミノシリケートとその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-091407   Applicant：日本化学工業株式会社