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J-GLOBAL ID：200903094736814072
自動パターン分析方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998254780
Publication number (International publication number)：1999166908
Application date： Sep. 09, 1998
Publication date： Jun. 22, 1999
Summary：
【要約】【課題】 本発明は自動パターン分析方法に関し、パターン分析を自動化することができる自動パターン分析方法を提供することを目的としている。【解決手段】 パターンが繰り返しになっている多数のパターンについて、そのうちの一つの代表パターン上で分析点と分析方法、分析条件を決定し、他のパターンでは、代表パターンで定めた分析点と位置関係が同じ点において、代表パターンで定めた分析方法と分析条件で自動分析するように構成する。
Claim (excerpt)：
表面に基本パターンが繰り返し形成されているウェハについて、細束電子ビームを照射し、ウェハ表面から発生するX線を検出してX線分析を行うパターン分析であって、ウェハ上の一つの基本パターンを代表パターンとして選択し、この代表パターン上で分析点と分析方法、分析条件を決定・記憶し、他のパターンでは、代表パターンで定めた分析点と位置関係が同じ点において、代表パターンで定めた分析方法と分析条件で自動分析することを特徴とする自動パターン分析方法。
IPC (4)：
G01N 23/225
, G01B 11/30
, H01L 21/66
, G01N 21/88
G01N 23/225
, G01B 11/30 D
, H01L 21/66 J
, G01N 21/88 E
