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J-GLOBAL ID:200903094739745373

反応解析装置および反応解析方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 大川 宏
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996331146
Publication number (International publication number):1997222419
Application date: Dec. 11, 1996
Publication date: Aug. 26, 1997
Summary:
【要約】【課題】触媒表面の素反応を抽出・解析する反応解析装置、方法を提供する。【解決手段】この装置は、真空下に試験試料を収納する反応室1と、試料9の表面に所定方向からパルス状に反応ガスを吹きつける反応ガス供給装置31と、吹きつけられ試料表面に衝突して反射する方向と異なる方向に開口40をもつ解析用ガス分離手段4と、分離手段4に取り込まれた解析用ガスをイオン化し静電的に所定方向に付勢し、イオンの到着時間差により反応生成物イオンの質量数を判別する飛行時間型質量分析装置51とを有する。試料の表面で起こる多成分が関与する反応を高速(サブミリ秒)で解析することができる。
Claim (excerpt):
真空下に試験試料を収納する反応室と、該試験試料の表面に所定方向からパルス状に反応ガスを吹きつける反応ガス供給装置と、該反応ガスが吹きつけられ該試験試料表面に衝突して反射する方向と異なる方向に有り該試験試料表面に対向する開口をもつ解析用ガス分離手段と、該解析用ガス分離手段に取り込まれた解析用ガスをイオン化しかつイオン化されたガスを静電的に所定方向に付勢し、イオンの到着時間差により反応生成物イオンの質量数を判別する飛行時間型質量分析装置と、を有することを特徴とする反応解析装置。
IPC (3):
G01N 27/62 ,  H01J 49/04 ,  H01J 49/40
FI (4):
G01N 27/62 Z ,  G01N 27/62 K ,  H01J 49/04 ,  H01J 49/40

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