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J-GLOBAL ID：200903094749235403

粉体のプラズマ処理方法

Inventor： 内山 宏 ,  赤染 義一
Applicant, Patent owner： イーシー化学株式会社 ,  伊藤忠ファインケミカル株式会社
Agent (1)： 田中 宏 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992163071
Publication number (International publication number)：1994000365
Application date： Jun. 22, 1992
Publication date： Jan. 11, 1994
Summary：

【要約】【目的】大量の粉体を連続的にプラズマ処理を施す粉体のプラズマ処理方法に関する。【構成】金属製の内筒の外側と同軸の金属製の外筒の内側の両方又は何れか一方に誘電体にてライニングを行い、これら内筒及び外筒を同軸的に軸支して両者間に一定の間隙を設け、これら内外筒を傾斜し、且つ、回転可能に設置し、内外筒間に電圧をかけて両者の間隙間に大気圧プラズマを発生させると共に該間隙間を被処理物である粉体を移動させて連続的にプラズマ処理を施すことを特徴とする粉体のプラズマ処理方法である。

Claim (excerpt)：

金属製の内筒の外側と同軸の金属製の外筒の内側の両方又は何れか一方に誘電体にてライニングを行い、これら内筒及び外筒を同軸的に軸支して両者間に一定の間隙を設け、これら内外筒を傾斜し、且つ、回転可能に設置し、内外筒間に電圧をかけて両者の間隙間に大気圧プラズマを発生させると共に該間隙間を被処理物である粉体を移動させて連続的にプラズマ処理を施すことを特徴とする粉体のプラズマ処理方法。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭59-145038
  
• 特開昭61-031319