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J-GLOBAL ID：200903094786771757

多層磁気抵抗効果膜及び磁気ヘッド

Inventor： 中谷 亮一 ,  星屋 裕之 ,  星野 勝美
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 平木 祐輔
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994148055
Publication number (International publication number)：1996017631
Application date： Jun. 29, 1994
Publication date： Jan. 19, 1996
Summary：

【要約】【目的】 優れた軟磁気特性及び耐熱性を示す多層磁気抵抗効果膜を提供する。【構成】 非磁性層14で分割された2層の磁性層13,15と、前記2層の磁性層のうちの一方の磁性層15に交換バイアス磁界を印加するための反強磁性層16とを含む多層膜を基板11上に形成した多層磁気抵抗効果膜において、多層膜と基板との間に周期律表におけるIVa族元素とVa族元素との合金からなるバッファ層12を形成する。【効果】 多層磁気抵抗効果膜は優れた軟磁気特性及び耐熱性を示す。また、この多層磁気抵抗効果膜を使用した磁気ヘッドは優れた再生特性を示す。

Claim (excerpt)：

非磁性層で分離された2層の磁性層と、前記2層の磁性層のうちの一方の磁性層に交換バイアス磁界を印加するための反強磁性層を含む多層膜を基板上に形成した多層磁気抵抗効果膜において、前記多層膜と前記基板との間に周期律表におけるIVa族元素とVa族元素との合金からなるバッファ層を形成したことを特徴とする多層磁気抵抗効果膜。

IPC (3)：

H01F 10/30 ,  G11B 5/39 ,  H01L 43/08