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J-GLOBAL ID：200903094786979811

放電処理装置

Inventor： 長谷川 功宏
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 鈴江 武彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993126581
Publication number (International publication number)：1994338460
Application date： May. 28, 1993
Publication date： Dec. 06, 1994
Summary：

【要約】【目的】装置が小さく、被処理体のエッチング速度、加工形状などの基体面内における均一性に優れる放電処理装置を提供する。【構成】真空容器201内の上壁部分211と電極203により、一対の電極が構成されている。電極203上には、被処理体204が搭載される。電極203上には、一対の電極間に発生するプラズマと電極203との間のインピ-ダンスを調節し得る機構が設けられる。この機構は、電極203上において被処理体204の周囲を取り囲むように配置されるリング状誘電体206と、電極203とリング状誘電体206の間に任意の間隔の隙間Aを形成し得る高さ調節部212とから構成される。

Claim (excerpt)：

真空容器内において互いに対向し合う一対の電極と、上記一対の電極の一方側の電極上であって、当該一方側の電極上に載置される被処理体の周囲を取り囲む位置に設けられ、上記一対の電極間に発生するプラズマと当該一方側の電極との間のインピ-ダンスを調節し得る機構とを具備することを特徴とする放電処理装置。

IPC (3)：

H01L 21/205 ,  H01L 21/203 ,  H01L 21/302