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J-GLOBAL ID：200903094795965211

アクティブマトリクス基板およびその製造方法

Inventor：
嶋田 吉祐

About 嶋田 吉祐


Applicant, Patent owner：
シャープ株式会社

About シャープ株式会社


Agent (1)： 山本 秀策
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996140528
Publication number (International publication number)：1997325330
Application date： Jun. 03, 1996
Publication date： Dec. 16, 1997
Summary：
【要約】【課題】 開口率が高く液晶の配向が良好な液晶表示装置を、削減された製造工程により歩留り良く作製する。【解決手段】 ゲート信号線2、ソース信号線12およびTFTを覆うように2層構造の層間絶縁膜が設けられている。層間絶縁膜の基板側の第1層はベンゾシクロブテン層からなり、第2層は第1層の表面を酸素プラズマ処理して得られた酸化シリコン層からなる。層間絶縁膜上には画素電極11が設けられ、層間絶縁膜を貫くコンタクトホール10を介してスイッチング素子に接続されている。
Claim (excerpt)：
基板上に互いに交差して設けられた走査配線および信号配線の交差部近傍にスイッチング素子が設けられ、該走査配線、該信号配線およびスイッチング素子を覆うように2層構造の層間絶縁膜が設けられると共に、該層間絶縁膜の基板と反対側表面に、該層間絶縁膜を貫くコンタクトホールを介して該スイッチング素子と接続された画素電極が設けられ、該2層構造の層間絶縁膜における基板側の第1層はベンゾシクロブテン層からなり、第2層は該第1層の表面を酸素プラズマ処理して得られた酸化シリコン層からなるアクティブマトリクス基板。
IPC (2)：
G02F 1/1333 505 ,  G02F 1/136 500
FI (2)：
G02F 1/1333 505 ,  G02F 1/136 500
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (2)
  • 特開平4-163528
  • パターン形成方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-084366   Applicant：株式会社日立製作所
Cited by examiner (2)
  • 特開平4-163528
  • パターン形成方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-084366   Applicant：株式会社日立製作所

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