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J-GLOBAL ID：200903094817270948

蒸着装置

Inventor： 高木 悟 ,  矢上 輝行 ,  室伏 光寿 ,  鈴木 巧一
Applicant, Patent owner： エイ・ジー・テクノロジー株式会社
Agent (1)： 泉名 謙治
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992160150
Publication number (International publication number)：1993331633
Application date： May. 27, 1992
Publication date： Dec. 14, 1993
Summary：

【要約】【構成】プラズマガン1と、電子ビームのアノードであり、蒸着中に移動可能な蒸着原料ハース4と、原料ハースと同電位で、電子ビームによる蒸着原料の加熱、蒸発を妨げない位置に設けられ、蒸着中に蒸着原料ハースの位置を変化させても、電子ビームとプラズマからみた実効陽極面積が一定に保たれるような補助陽極14とを有する蒸着装置。【効果】成膜速度や薄膜特性の変動がなく、蒸着原料の有効利用と原料補給が容易となる。

Claim (excerpt)：

電子ビームを発生することによりプラズマ流を形成可能なプラズマガンと、電子ビームのアノードとして機能し、蒸着中に移動可能な蒸着原料ハースと、蒸着原料ハースと同電位で、電子ビームによる蒸着原料の加熱、蒸発を妨げない位置に設けられた補助陽極であって、蒸着中に蒸着原料ハースの位置を変化させても、電子ビームとプラズマからみた実効陽極面積が一定に保たれるような補助陽極とを有することを特徴とする蒸着装置。