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J-GLOBAL ID:200903094822223850
X線装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998112864
Publication number (International publication number):1999290306
Application date: Apr. 09, 1998
Publication date: Oct. 26, 1999
Summary:
【要約】【課題】 X線吸収率の低い領域から高い領域までを含む撮像領域におけるX線像の画質を向上することが可能なX線装置を提供すること。【解決手段】 X線を発生し被検体に照射するX線照射手段と,該X線照射手段の前面に配置され前記被検体へ照射するX線の強度分布を制御するX線補償フィルタと,前記被検体のX線像を撮像する撮像手段とを有するX線装置において、前記撮像手段で撮像したX線像のコントラスト幅に応じて、前記X線補償フィルタの挿入領域を決定するしきい値設定手段を具備する。
Claim (excerpt):
X線を発生し被検体に照射するX線照射手段と,該X線照射手段の前面に配置され前記被検体へ照射するX線の強度分布を制御するX線補償フィルタと,前記被検体のX線像を撮像する撮像手段とを有するX線装置において、前記撮像手段で撮像したX線像のコントラスト幅に応じて、前記X線補償フィルタの挿入領域を決定するしきい値設定手段を具備することを特徴とするX線装置。
IPC (2):
A61B 6/00 300
, A61B 6/00 320
FI (2):
A61B 6/00 300 J
, A61B 6/00 320 M
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