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J-GLOBAL ID：200903094836233557

ネガ型レジスト組成物及びパターン形成方法

Inventor：
樽谷 晋司

About 樽谷 晋司

, 
星野 渉

About 星野 渉

, 
吉留 正洋

About 吉留 正洋


Applicant, Patent owner：
富士フイルム株式会社

About 富士フイルム株式会社


Agent (2)： 高松 猛 ,  矢澤 清純
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008100758
Publication number (International publication number)：2009251392
Application date： Apr. 08, 2008
Publication date： Oct. 29, 2009
Summary：
【課題】膜減りしにくく、パターン倒れしにくいネガ型レジスト組成物およびパターン形成方法を提供する。【解決手段】(A)アルカリ可溶性樹脂、(B)酸の作用によりアルカリ可溶性樹脂を架橋する架橋剤、(C1)活性光線又は放射線の照射により架橋反応を進行させる化合物、(C2)光ラジカル発生剤、、および、(D)ラジカル重合性基を有する化合物、を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物およびパターン形成方法。【選択図】なし
Claim (excerpt)：
(A)アルカリ可溶性樹脂、 (B)酸の作用によりアルカリ可溶性樹脂を架橋する架橋剤、 (C1)活性光線又は放射線の照射により架橋反応を進行させる化合物、 (C2)光ラジカル発生剤、 (D)ラジカル重合性基を有する化合物、 を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物。
IPC (2)：
G03F 7/038 ,  H01L 21/027
FI (2)：
G03F7/038 601 ,  H01L21/30 502R
F-Term (20)：
2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025BE07 ,  2H025CB08 ,  2H025CB13 ,  2H025CB14 ,  2H025CB42 ,  2H025CB43 ,  2H025CB45 ,  2H025CC04 ,  2H025CC17 ,  2H025CC20 ,  2H025FA10 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
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Cited by examiner (8)
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