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J-GLOBAL ID：200903094838603912

質量分析装置

Inventor： 山口 真一
Applicant, Patent owner： 株式会社島津製作所
Agent (1)： 小林 良平
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007191654
Publication number (International publication number)：2009025268
Application date： Jul. 24, 2007
Publication date： Feb. 05, 2009
Summary：

【課題】光学的な顕微観察画像で試料上の各組織が明瞭でなく、組織の有無や組織を構成する分子等についての予見がない場合でも、煩雑な手間を要することなく、組織のマッピング画像を提示する。【解決手段】試料上の所定の二次元範囲内に設定された多数の微小領域の質量スペクトルデータが得られると(S1)、このデータを主成分分析することにより二次元範囲に特徴的な質量ピークを抽出する(S2)。そして、特定の質量ピークが観察される微小領域の二次元的な集中の度合いを例えば座標の分散値などを算出することで調査し(S3)、集中度が高い場合に、それら微小領域が同一組織を形成しているとみなし、各組織を識別可能なマッピング画像を作成して表示する(S4、S5)。【選択図】図2

Claim (excerpt)：

試料上の所定の二次元範囲内に設定された複数の微小領域毎の質量分析を行い、その結果を利用して質量分析イメージングを行う質量分析装置において、 a)前記複数の微小領域毎に収集された質量スペクトルデータ又は近接する複数の微小領域を集めた集合微小領域に対応する質量スペクトルデータに基づいて、二次元範囲全体として特徴的な質量を抽出する特徴抽出手段と、 b)前記特徴抽出手段により抽出された、特徴的な質量が観測される微小領域又は集合微小領域の二次元的な集中の程度を統計的に判断する集中度判定手段と、 c)前記集中度判定手段により二次元的な集中の程度が高いと判断された、特徴的な質量が観測される微小領域又は集合微小領域を、試料上の同一種類の部位であるとみなし、それを反映した情報を作成して提示する情報提示手段と、 を備えることを特徴とする質量分析装置。

IPC (4)：

G01N 27/62 ,  H01J 49/16 ,  H01J 49/42 ,  H01J 49/40

FI (6)：

G01N27/62 D ,  G01N27/62 Z ,  G01N27/62 K ,  H01J49/16 ,  H01J49/42 ,  H01J49/40

F-Term (15)：

2G041CA01 ,  2G041DA04 ,  2G041EA01 ,  2G041GA07 ,  2G041GA08 ,  2G041GA10 ,  2G041HA06 ,  2G041JA06 ,  2G041KA01 ,  2G041LA20 ,  5C038GG07 ,  5C038GG08 ,  5C038GG13 ,  5C038GH09 ,  5C038JJ06

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• レーザー照射質量分析装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2005-247134   Applicant：株式会社島津製作所, 大学共同利用機関法人自然科学研究機構, 国立大学法人大阪大学
• イメージング質量分析装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2005-346872   Applicant：国立大学法人大阪大学, 学校法人光産業創成大学院大学