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J-GLOBAL ID：200903094918699740
ドライエツチング方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
浅井 章弘
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991206300
Publication number (International publication number)：1993029276
Application date： Jul. 23, 1991
Publication date： Feb. 05, 1993
Summary：
【要約】【目的】 発光強度の検出値のゆらぎを相殺してエッチング終点の検出感度を向上させる。【構成】 エッチングにより発生する反応生成物のスペクトルと重なるスペクトルを有するプラズマ安定化ガスと、エッチングガスとしてCF系ガスとを反応容器4内へ導入して被処理体18のエッチングを行なう際して、CF系ガスの活性種であるCF2ラジカルの発光強度を検出し、エッチングで発生した反応生成物であるCOガスの発光強度を検出し、これら検出値の比の変化を監視することにり、エッチングの終点を検出する。
Claim (excerpt)：
エッチングによる反応生成物のスペクトルと重なるスペクトルを有するプラズマ安定化ガスと、エッチングに関与するCF系ガスとを反応容器内に導入して被処理体をエッチングする方法において、前記CF系ガスの活性種の発光強度を検出すると共に、前記反応生成物の発光強度を検出し、前記得られた2つの発光強度の比に基づいてエッチングの終点を検出するように構成したことを特徴とするドライエッチング方法。
Patent cited by the Patent：
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