インターフェース部品及びその作製方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：谷義一 , 阿部和夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007151953
Publication number (International publication number)：2007327959
Application date： Jun. 07, 2007
Publication date： Dec. 20, 2007
Summary：

【課題】大気圧のイオナイザの真空システムに対するインターフェースとするための平面状の部品を提供すること。【解決手段】インターフェース部品は、静電オプティクス及びスキマーを所定の圧力のガスで満たすことのできる内部チャンバと組み合わせ、シリコンのリソグラフィ、エッチング及び結合によって構成される。【選択図】図5

Claim (excerpt)：

イオナイザから真空システムにイオンビームを伝達するように微細設計されたインターフェース部品であって、該インターフェース部品が、少なくとも1つのパターン化された表面を有する半導体材料から形成され、該半導体材料が、前記イオンビームを、該半導体材料中を通して前記真空システムに与えることができるチャネルを前記半導体材料中に設けるようにオリフィスを構成していることを特徴とするインターフェース部品。

IPC (2)：

G01N 27/62 , H01J 49/10

FI (3)：

G01N27/62 F , G01N27/62 X , H01J49/10

F-Term (12)：

2G041CA01 , 2G041DA05 , 2G041EA04 , 2G041GA17 , 2G041GA20 , 2G041GA21 , 2G041GA27 , 2G041HA01 , 2G041HA02 , 5C038GG08 , 5C038GH05 , 5C038GH17

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (12)

米国特許第4531056号明細書
米国特許第5157260号明細書
米国特許第4963736号明細書

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Cited by examiner (6)

質量分析装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-153281 Applicant：株式会社日立製作所
一体化モノリシックマイクロ加工したエレクトロスプレーと液体クロマトグラフィーのシステムおよび方法
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2000-569901 Applicant：アドヴィオンバイオサイエンシィズインコーポレイテッド, キオニックス・インコーポレイテッド
特開平2-160339

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Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

Electrospray ionization source geometry for mass spectrometry:past,prezent, and future

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