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J-GLOBAL ID：200903094962049320

グリッド偏光子及びその製造方法

Inventor： 鈴木 聡史 ,  安間 康浩
Applicant, Patent owner： 富士電気化学株式会社
Agent (1)： 茂見 穰
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999088245
Publication number (International publication number)：2000284117
Application date： Mar. 30, 1999
Publication date： Oct. 13, 2000
Summary：

【要約】【課題】 コンタクトメタルを必要とせず単一の金属材料を使用しているにもかかわらず、信頼性が高く且つきれいな断面形状のグリッド構造を実現できるようにする。グリッド周期を実質的に短縮でき、理論的な特性限界値を向上できるようにする。【解決手段】 第1及び第2の光透過性基板(ガラス基板10,14)の片面にそれぞれ多数本の銅細線12,16を平行に配列したグリッドパターンを形成し、それら第1及び第2の光透過性基板のグリッドパターン形成面が対向し且つ両方のグリッドパターンがほぼ平行となるように配置し、間に光学接着剤18を介在させて接合一体化した構造である。両方のグリッドパターンは、周期が互いに異なるようにするのが好ましい。

Claim (excerpt)：

第1及び第2の光透過性基板の片面にそれぞれ多数本の銅細線を平行に配列したグリッドパターンを形成し、それら第1及び第2の光透過性基板はグリッドパターン形成面が対向し且つ両方のグリッドパターンがほぼ平行となるように配置され、間に光学接着剤が介在して接合一体化されていることを特徴とするグリッド偏光子。

F-Term (10)：

2H049AA34 ,  2H049AA37 ,  2H049AA45 ,  2H049AA46 ,  2H049AA48 ,  2H049AA59 ,  2H049AA66 ,  2H049AA68 ,  2H049BA45 ,  2H049BC25