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J-GLOBAL ID：200903094965234110

ガス供給装置

Inventor： 小美野 光明 ,  内澤 修 ,  千葉 康広
Applicant, Patent owner： 東京エレクトロン株式会社 ,  株式会社本山製作所
Agent (1)： 中本 菊彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997225842
Publication number (International publication number)：1999063398
Application date： Aug. 07, 1997
Publication date： Mar. 05, 1999
Summary：

【要約】【課題】 ガス供給系における排気ガスの排気流量のオーバーシュートを防止すると共に、排気時間の短縮を図ること。【解決手段】 ガス供給口3と所定の材料ガスを充填するボンベ1とを連通するガス供給管路4と、このガス供給管路4から分岐される排気管路5と、この排気管路5に介設されると共にパージ用ガスの供給によって排気管路5内を負圧にして排気ガスを排気管路5を介して排気する真空発生器10とを具備するガス供給装置において、排気管路5における真空発生器10の一次側に、操作気体の操作圧に追従して開閉するダイヤフラム弁20を配設すると共に、このダイヤフラム弁20の二次側に圧力センサ30を配設し、圧力センサ30からの検出信号をCPU50にフィードバックし、CPU50からの制御信号に基づいてダイヤフラム弁20を遅延制御する。

Claim (excerpt)：

ガス供給口と所定の材料ガスを充填するボンベとを連通するガス供給管路と、このガス供給管路から分岐される排気管路と、この排気管路に介設されると共にパージ用ガスの供給によって排気管路内を負圧にして排気ガスを排気管路を介して排気する負圧発生手段とを具備するガス供給装置において、上記排気管路における上記負圧発生手段の一次側に、操作気体の操作圧に追従して開閉する気体圧作動弁を配設すると共に、この気体圧作動弁の二次側に圧力検出手段を配設し、上記圧力検出手段からの検出信号に基づいて上記操作気体の操作圧を遅延制御する制御手段を設けてなる、ことを特徴とするガス供給装置。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開平3-292496
  
• 特開平1-287277
  
• 特開平3-292496
  
• 特開平1-287277