Pat
J-GLOBAL ID:200903094966727160

炭酸ガスの地中貯留システム

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 和泉 久志
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2008130399
Publication number (International publication number):2009274047
Application date: May. 19, 2008
Publication date: Nov. 26, 2009
Summary:
【課題】帯水層に注入した炭酸ガスが地中を上昇し海底面に漏出することがないとともに、炭酸ガス溶解水の状態を広域的かつ長期的にモニタリングが可能な炭酸ガスの地中貯留システムを提供する。【解決手段】炭酸ガスを溶媒に溶解させた状態で海底地盤中の帯水層に圧入し、貯留・隔離するための炭酸ガスの地中貯留システムであって、炭酸ガスを溶媒に溶解させるとともに、比重が帯水層の水比重よりも大きい炭酸ガス溶解水を生成する炭酸ガス溶解水製造装置1と、生成された炭酸ガス溶解水を前記帯水層に圧入するために海底地盤中の帯水層まで貫通させた注入井5とから構成され、前記炭酸ガス溶解水の貯留領域Hを、炭酸ガスハイドレートを生成し得る圧力条件及び温度条件を満足するとともに、海底面より所定深さで存在しているハイドレート生成層Sと重ならない下層領域に形成する。【選択図】図1
Claim (excerpt):
炭酸ガスを溶媒に溶解させた状態で海底地盤中の帯水層に圧入し、貯留・隔離するための炭酸ガスの地中貯留システムであって、 炭酸ガスを溶媒に溶解させるとともに、比重が帯水層の水比重よりも大きい炭酸ガス溶解水を生成する炭酸ガス溶解水製造装置と、生成された炭酸ガス溶解水を前記帯水層に圧入するために海底地盤中の帯水層まで貫通させた注入井とから構成され、 前記炭酸ガス溶解水の貯留領域を、炭酸ガスハイドレートを生成し得る圧力条件及び温度条件を満足するとともに、海底面より所定深さで存在しているハイドレート生成層と重ならない下層領域に形成するようにしたことを特徴とする炭酸ガスの地中貯留システム。
IPC (1):
B01J 19/00
FI (1):
B01J19/00 A
F-Term (9):
4G075AA04 ,  4G075AA65 ,  4G075BB04 ,  4G075BB10 ,  4G075BD15 ,  4G075CA74 ,  4G075DA02 ,  4G075DA16 ,  4G075EC06
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2) Cited by examiner (8)
Show all

Return to Previous Page