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J-GLOBAL ID：200903094980037304

ガスの浄化装置

Inventor： 峯元 雅樹 ,  北 吉博 ,  栄藤 徹 ,  二瓶 武
Applicant, Patent owner： 三菱重工業株式会社
Agent (1)： 坂間 暁 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992263480
Publication number (International publication number)：1993237342
Application date： Oct. 01, 1992
Publication date： Sep. 17, 1993
Summary：

【要約】【目的】 処理ガス中のCO2 又はCO2 とCOをCO2 吸着剤又はCO2 吸着剤とCO吸着剤によって除去する装置において、CO2 、COの除去性能を高め、かつ、小形の装置で連続的にCO2 、COを除去できるようにする。【構成】 シリカゲル又はアルミナにK2 CO3 又はKHCO3 を添着したCO2 吸着剤を充填した回転ドラム1を備え、この回転ドラム1には固定された再生ゾーンで加熱空気5がその一部に通気され、回転ドラム1の残部には固定された処理ゾーンBにはCO2 を含む処理ガスが通気される。また、前記CO2 吸着剤とシリカゲル又はアルミナにPdを添着したCO吸着剤を吸着塔に充填し、この吸着塔に吸着剤の再生用の加熱空気を通気するようにした。更に、前記CO2 吸着剤と前記CO吸着剤を前記回転ドラムに充填するようにした。

Claim (excerpt)：

シリカゲル又はアルミナにK2 CO3 又はKHCO3 を添着した二酸化炭素吸着剤を充填した回転ドラムを備え、前記回転ドラムには、固定された再生ゾーンでその一部に二酸化炭素吸着剤の再生用の加熱空気が通気されると共に固定された処理ゾーンでその残部に二酸化炭素を含む処理ガスが通気されることを特徴とするガスの浄化装置。

IPC (4)：

B01D 53/34 135 ,  B01D 53/06 ,  B01J 20/08 ,  B01J 20/10