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J-GLOBAL ID：200903094987268182

感光性組成物

Inventor： 内藤 卓哉 ,  木原 尚子
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 則近 憲佑
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993054398
Publication number (International publication number)：1994266100
Application date： Mar. 15, 1993
Publication date： Sep. 22, 1994
Summary：

【要約】【目的】 本発明は化学増幅型レジストのパターン形状の向上を目的とする。【構成】 化学増幅型のレジストにおいて、光をはじめとする電離放射線の照射により分解する塩基性化合物を添加することにより、レジストパターンの形状を向上させた。その結果として微細パターン加工における解像度を飛躍的に向上させる等の効果が得られた。【効果】 本発明によりレジストのコントラストが向上し、微細パターン加工における解像度を飛躍的に向上できる。

Claim (excerpt)：

酸により分解又は架橋する置換基を有する化合物と、化学放射線の照射により酸を発生し得る化合物と、酸を中和し化学放射線の照射により分解又は酸の中和力が低下する化合物とからなる感光性組成物。

IPC (5)：

G03F 7/004 503 ,  G03F 7/029 ,  G03F 7/038 505 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/027