発酵乾燥機および発酵乾燥システム並びに発酵乾燥方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：長谷川芳樹 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000222872
Publication number (International publication number)：2002068872
Application date： Jul. 24, 2000
Publication date： Mar. 08, 2002
Summary：

【要約】【課題】装置構成が簡単でかつ必要な動力も小さいため小規模のコンポスト化処理への適用が容易であり、転動造粒現象の発生も抑制され、しかも被処理物の充填率が変化しても安定して短時間で被処理物を完全混合することが可能な発酵乾燥機を提供すること。【解決手段】汚泥を発酵乾燥させて堆肥を生成する発酵乾燥機5は、本体容器51内部に、互いに逆向きの二重螺旋状に配置されている外羽根53と内羽根54とが取り付けられている回転軸52が貫通配置されており、内羽根54の回転軸52の軸方向への投影面積が外羽根53の投影面積の1.1〜1.3倍となっている。

Claim (excerpt)：

汚泥を発酵乾燥させて堆肥を生成する発酵乾燥機であって、下側の内壁は横転させた仮想円筒の円筒面の下半分に対応し、上側の内壁はこの仮想円筒の円筒面かその外側に位置し、材料投入口と製品排出口とが設けられている本体容器と、前記本体容器内に前記仮想円筒の中心軸に沿って回転可能に配置されている回転軸と、外周縁が前記本体容器の下側の内壁に近接し、内周縁と前記回転軸との間に所定の隙間を有するよう前記回転軸を中心として螺旋状に該回転軸に固定配置されている外羽根と、前記回転軸と前記外羽根の内周縁との間に前記回転軸を中心として前記外羽根とは逆螺旋状に該回転軸に固定配置されている内羽根と、を備えており、前記内羽根の前記回転軸の軸方向への投影面積が前記外羽根の投影面積の1.1〜1.3倍となっていることを特徴とする発酵乾燥機。

IPC (4)：

C05F 7/00 301 , C02F 11/02 , C02F 11/12 , F26B 11/14

FI (4)：

C05F 7/00 301 F , C02F 11/02 , C02F 11/12 B , F26B 11/14

F-Term (46)：

3L113AA09 , 3L113AB03 , 3L113AC01 , 3L113AC25 , 3L113AC45 , 3L113AC46 , 3L113AC52 , 3L113AC58 , 3L113AC68 , 3L113AC86 , 3L113BA37 , 3L113CA02 , 3L113CA04 , 3L113CA09 , 3L113CA11 , 3L113CB01 , 3L113DA02 , 3L113DA10 , 3L113DA14 , 4D059AA05 , 4D059BA03 , 4D059BA44 , 4D059BA46 , 4D059BA48 , 4D059BD01 , 4D059BJ02 , 4D059BJ03 , 4D059CA08 , 4D059CC01 , 4D059DB33 , 4D059DB40 , 4H061AA02 , 4H061AA03 , 4H061CC47 , 4H061CC51 , 4H061EE66 , 4H061FF06 , 4H061GG14 , 4H061GG16 , 4H061GG19 , 4H061GG41 , 4H061GG49 , 4H061GG68 , 4H061GG70 , 4H061LL25 , 4H061LL30

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

特開平2-135137
有機廃物の発酵乾燥処理装置及び処理法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-235952 Applicant：キシエンジニアリング株式会社

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