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J-GLOBAL ID：200903094990484503

チャンバーのプラズマクリーニング方法

Inventor： 今井 宏 ,  山中 通成
Applicant, Patent owner： 松下電器産業株式会社
Agent (1)： 小鍜治 明 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993087118
Publication number (International publication number)：1994302565
Application date： Apr. 14, 1993
Publication date： Oct. 28, 1994
Summary：

【要約】【目的】 チャンバー内に付着した反応生成物の除去を効率よく行なうことができ、チャンバーの真空を破ることなくクリーニングが可能なプラズマクリーニング方法を提供する。【構成】 アルミニウム合金膜の塩素系ガスを用いたドライエッチングの後、(1)NF3ガスのプラズマによるチャンバー1のクリーニングとO2ガスのプラズマによるチャンバー1のクリーニングを行ない、その後、メタン(CH4)とN2の混合ガスのプラズマを用いてチャンバー1をクリーニングするか、または、(2)NF3ガスのプラズマによるチャンバー1のクリーニングを行ない、その後、イソプロピルアルコール(i-C3H7OH)と酸素(O2)の混合ガスのプラズマを用いてチャンバーをクリーニングする。

Claim (excerpt)：

塩素系あるいは臭素系のガスを用いた金属薄膜のドライエッチング後にチャンバーをクリーニングする方法において、少なくとも水素を含む有機化合物のガスのプラズマを用いることを特徴とするチャンバーのプラズマクリーニング方法。

IPC (2)：

H01L 21/302 ,  C23F 4/00