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J-GLOBAL ID：200903094998494486

真空蒸着装置

Inventor： 森岡 大悟 ,  福沢 真一 ,  川上 威
Applicant, Patent owner： 日本電気株式会社
Agent (1)： 菅野 中
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996274738
Publication number (International publication number)：1998121241
Application date： Oct. 17, 1996
Publication date： May. 12, 1998
Summary：

【要約】【課題】 マスクを使用した真空蒸着装置において、真空雰囲気中で連続して多層の蒸着膜を異なったパターンで作成する場合に、基板蒸着面への傷の発生の防止と、蒸着面への塵の付着を減少させる。【解決手段】 真空槽1と、基板ホルダー2及びマスクホルダー3を脱着自在に保持して搬送可能なホルダー脱着搬送機構4と、基板ホルダー2とマスクホルダー3が重なった後にメタルマスクの四辺以上の方向にテンションを加えるテンション機構13とを備えており、基板ホルダー2は、基板7を水平方向から挾み込む爪10を備えている。また、基板ホルダー2に保持された基板7とマスクホルダー3に保持されたマスク6とは間隔を空けて配置され、基板蒸着面の傷が防止され、かつ蒸着面への塵の付着が減少される。

Claim (excerpt)：

少なくとも基板ホルダとマスクホルダを真空槽内に有する真空蒸着装置であって、基板ホルダは、基板を保持するものであって、開閉可能な爪を有し、開閉する爪は、基板の周縁を挟持し、該基板を基板ホルダに脱着可能に装着するものであり、マスクホルダは、マスクを保持するものであって、テンション機構を有し、基板ホルダとマスクホルダは、基板とマスクを対向させ、かつ両者間に隙間をもたせて組合されるものであり、テンション機構は、マスクにテンションを加え、マスクを基板ホルダの基板と平行な姿勢に矯正するものであることを特徴とする真空蒸着装置。

IPC (2)：

C23C 14/50 ,  H01L 21/203

FI (2)：

C23C 14/50 F ,  H01L 21/203 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• 特公昭61-057903
  
• 特公昭57-029877
  
• 特公昭62-041416
  
• 特公昭61-036583
  
• 特開平4-071183