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J-GLOBAL ID：200903095003138948

フッ化物薄膜及びその製造方法及び光学薄膜及び光学素子

Inventor： 北本 達也
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999282262
Publication number (International publication number)：2001011602
Application date： Oct. 04, 1999
Publication date： Jan. 16, 2001
Summary：

【要約】【課題】 従来、紫外域、特にArF波長(193nm)の光学薄膜の光学性能を高性能化するにあたり、使用する膜物質が限定されるために、高屈折率物質と低屈折率物質の屈折率差を大きくすることができないので、ArF波長(193nm)に於いて用いられる光学薄膜は、可視域で用いられるものよりも光学性能が低かった。【解決手段】フッ化物基板上に二酸化ケイ素とフッ化物とから成る混合薄膜を共蒸着により形成した後、混合薄膜より二酸化ケイ素のみを選択的に除去することにより、低屈折率のフッ化物薄膜を作製した。

Claim (excerpt)：

基板上に二酸化ケイ素とフッ化物とから成る混合薄膜を形成する段階、前記混合薄膜より二酸化ケイ素のみを選択的に除去する段階を有することを特徴としたフッ化物薄膜の製造方法。

IPC (3)：

C23C 14/06 ,  C23C 14/58 ,  G02B 1/04

FI (3)：

C23C 14/06 L ,  C23C 14/58 Z ,  G02B 1/04

F-Term (7)：

4K029AA04 ,  4K029BA42 ,  4K029BA64 ,  4K029BC07 ,  4K029DB14 ,  4K029EA00 ,  4K029GA00