ドライエッチング装置及びドライエッチング方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：中澤昭彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996249960
Publication number (International publication number)：1998098022
Application date： Sep. 20, 1996
Publication date： Apr. 14, 1998
Summary：

【要約】【課題】良好なエッチング均一性、エッチング形状及びエッチング再現性を得ることができ、かつパーティクルの発生を防止でき、量産性に優れたドライエッチング装置及びドライエッチング方法を提供する。【解決手段】所定間隔を隔てて対向して配置された電極3、4を備え、反応性ガスを導入して電極3、4間にプラズマを発生させ、被エッチング材1をドライエッチングする。プラズマにさらされる領域はAlを含まない材科で作られ、かつ、反応性ガスとしてCF4のガスだけを用いる。電極3、4間にプラズマを閉じこめるためのリング状のカバー6が設けられているので、被エッチング材1以外でプラズマにさらされる領域が極力少なくなり、パーティクル対策として有効である。

Claim (excerpt)：

所定間隔を隔てて対向して配置された電極を備え、反応性ガスを導入して前記電極間にプラズマを発生させ、被エッチング材をドライエッチングする装置であって、前記プラズマにさらされる領域は、Alを含まない材科で作られ、かつ、反応性ガスとしてCF4のガスだけを用いることを特徴とするドライエッチング装置。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

特開昭59-172236
特開平3-241740
特開昭58-213427

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