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J-GLOBAL ID：200903095073880676

ポジ型フオトレジスト組成物、感光性絶縁膜およびパタ-ン形成方法

Inventor： 藤井 弘文 ,  表 利彦 ,  林 俊一
Applicant, Patent owner： 日東電工株式会社
Agent (1)： 祢▲ぎ▼元 邦夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992217332
Publication number (International publication number)：1994043648
Application date： Jul. 22, 1992
Publication date： Feb. 18, 1994
Summary：

【要約】【目的】 感度や解像度にすぐれるとともに、硬化後も熱可塑性を示して熱圧着性を有するものとなるポジ型フオトレジスト組成物を提供する。【構成】 樹脂成分として熱可塑性ポリイミドとなりうる種々の分子構造のポリイミド前駆体を用い、これに活性光線の照射で塩基性を呈する化合物を配合して、ポジ型フオトレジスト組成物を構成させる。

Claim (excerpt)：

A)つぎの式(I);〔式中、R1 は4価の芳香族または脂肪族の炭化水素残基、R2 は2価の芳香族または脂肪族の炭化水素残基である〕で示される構造単位を有する熱可塑性ポリイミドとなりうる樹脂成分と、B)活性光線の照射によつて塩基性を呈する化合物とを、含有してなることを特徴とするポジ型フオトレジスト組成物。

IPC (9)：

G03F 7/039 ,  C08G 73/10 NTE ,  C08K 5/3432 ,  C08L 79/08 LRB ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/027 514 ,  G03F 7/26 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/312

FI (2)：

H01L 21/30 301 R ,  H01L 21/30 361 L