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J-GLOBAL ID：200903095081277423

基板処理装置

Inventor：
大谷 正美

About 大谷 正美


Applicant, Patent owner：
大日本スクリーン製造株式会社

About 大日本スクリーン製造株式会社


Agent (1)： 福島 祥人
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997324987
Publication number (International publication number)：1999162812
Application date： Nov. 26, 1997
Publication date： Jun. 18, 1999
Summary：
【要約】【課題】 処理異常の発生による基板の不良化の低減が可能でかつ基板処理の歩留りの低下を防止することが可能な基板処理装置を提供する。【解決手段】 加熱プレート1および熱源2を有する基板加熱装置において、加熱プレート1に温度センサ4を設け、加熱プレート1の温度を主コントローラ5に出力する。主コントローラ5は一定時間ごとに加熱プレート1の温度をサンプリングし、サンプリングした温度データに基づいて補間演算を行い、現時点から一定時間経過後の加熱プレート1の温度予測値を算出する。温度予測値が所定の警報温度を超える場合には警報部7が警報を出力する。
Claim (excerpt)：
基板処理に関する所定の動作を行う処理部と、前記処理部の動作に関連する物理量の値を検出する検出手段と、前記検出手段により検出された前記物理量の値に基づいて所定時間経過後の物理量の予測値を算出する算出手段と、前記算出手段により算出された前記物理量の予測値が、予め定められた第1の値を超えるか否かを判定する判定手段と、前記判定手段によって前記物理量の予測値が前記第1の値を超えると判定された場合に警報を出力する警報手段とを備えたことを特徴とする基板処理装置。
IPC (2)：
H01L 21/027 ,  H01L 21/324
FI (4)：
H01L 21/30 566 ,  H01L 21/324 G ,  H01L 21/324 T ,  H01L 21/30 571
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (2)

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