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J-GLOBAL ID:200903095097371470
半導体レーザ
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
丸山 敏之 (外3名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992128347
Publication number (International publication number):1994085378
Application date: May. 21, 1992
Publication date: Mar. 25, 1994
Summary:
【要約】【目的】 レーザ素子の直列抵抗の増大を招くことなく、レーザ素子の接合面に平行な面上でのビームの広がり角θを拡大することが可能な半導体レーザを提供する。【構成】 n-GaAs基板1上に、n-AlGaInPクラッド層3、AlGaInP活性層4、及びストライプ状のリッジ部10を有するp-AlGaInPクラッド層5が形成されると共に、前記リッジ部10上にはp-GaInPコンタクト層6が形成された半導体レーザであって、前記コンタクト層6のみにp形ドーパントとしてMgが用いられている。
Claim (excerpt):
n形半導体基板(1)上に、n形クラッド層(3)、活性層(4)、及びストライプ状のリッジ部(10)を有するp形AlGaInPクラッド層(5)が形成されると共に、前記リッジ部(10)上にはp形GaInPコンタクト層(6)が形成された半導体レーザにおいて、前記コンタクト層(6)には、前記クラッド層(5)のp形ドーパントよりも拡散係数の大なるp形ドーパントが用いられていることを特徴とする半導体レーザ。
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