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J-GLOBAL ID：200903095131422160

光吸収性反射防止体とその製造方法

Inventor： 尾山 卓司 ,  片山 佳人
Applicant, Patent owner： 旭硝子株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000108439
Publication number (International publication number)：2000356706
Application date： Dec. 13, 1995
Publication date： Dec. 26, 2000
Summary：

【要約】【課題】適度な光吸収率と反射防止性能とを有し、耐熱性にも優れる光吸収性反射防止体を低コストで生産する。【解決手段】基板10上に基板10側から、チタンの窒化物を主成分とする光吸収膜11と、シリカ膜13とを順に形成してなる光吸収性反射防止体において、光吸収膜11は、チタンに対する原子割合が0.5以下の酸素を含む膜であって膜厚が5〜25nmであり、かつ、シリカ膜13の膜厚が70〜110nmである光吸収性反射防止体とその製造方法。

Claim (excerpt)：

基体上に基体側から、光吸収膜とシリカ膜とをこの順に形成してなる、シリカ膜側からの入射光の反射を低減させる光吸収性反射防止体において、光吸収膜の幾何学的膜厚が5〜25nmであり、かつ、シリカ膜の幾何学的膜厚が70〜110nmであることを特徴とする光吸収性反射防止体。

IPC (6)：

G02B 1/11 ,  B32B 7/02 103 ,  B32B 9/00 ,  C03C 17/34 ,  G09F 9/00 309 ,  G09F 9/00 313

FI (6)：

G02B 1/10 A ,  B32B 7/02 103 ,  B32B 9/00 A ,  C03C 17/34 Z ,  G09F 9/00 309 A ,  G09F 9/00 313