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J-GLOBAL ID：200903095140568585

膜厚測定装置

Inventor： 清水 好男 ,  保井 弘行
Applicant, Patent owner： 大日本スクリーン製造株式会社
Agent (1)： 小谷 悦司 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997324762
Publication number (International publication number)：1999160059
Application date： Nov. 26, 1997
Publication date： Jun. 18, 1999
Summary：

【要約】【課題】 カセットから取出した基板をステージに受渡すのに先立って、基板のずれを機械的に修正する。【解決手段】 ウエハカセット11,12を載置する載置ステージ1と、ウエハカセット11,12に対してウエハを出し入れするインデクサ部2と、半導体ウエハの膜厚を測定する測定部3とを備えて膜厚測定装置を構成した。インデクサ部2には、インデクサロボット21と中心調整装置22とを設け、インデクサロボット21により取出したウエハのずれを中心調整装置22で修正するようにした。中心調整装置22には、一対のチャック221を設け、取出したウエハをこれらチャック221により挾持することによりハンド211に対するウエハのずれを修正するようにした。

Claim (excerpt)：

カセットから取出した基板をステージに受渡し所定の測定位置に位置決めして膜厚測定を行う膜厚測定装置において、上記カセットから基板を取出し、上記ステージに受渡す移送手段と、基板の上記ステージへの受渡しに先立って上記移送手段により上記カセットから取出され、さらに修正位置に搬送された基板を、その周囲から挾持して上記移送手段に対する基板の位置を修正する位置修正手段とを設けたことを特徴とする膜厚測定装置。

IPC (5)：

G01B 21/08 ,  B65G 49/07 ,  G01B 11/06 ,  G01B 21/00 ,  H01L 21/66

FI (5)：

G01B 21/08 ,  B65G 49/07 F ,  G01B 11/06 Z ,  G01B 21/00 H ,  H01L 21/66 P

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 測定ステージ
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-128123   Applicant：大日本スクリーン製造株式会社
• 特開平2-132840