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J-GLOBAL ID：200903095147088635

光反射性防止材料及びパターン形成方法

Inventor： 畠山 潤 ,  梅村 光雄 ,  木下 博文
Applicant, Patent owner： 信越化学工業株式会社
Agent (1)： 小島 隆司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993345213
Publication number (International publication number)：1995181685
Application date： Dec. 21, 1993
Publication date： Jul. 21, 1995
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】 微細で寸法精度及び合わせ精度が高く、簡便で生産性が高く、再現性が良い上、環境破壊の問題がなく実用的にレジストパターンを形成する。【構成】 下記一般式(1)〜(4)で表されるフッ素化アルキルポリエーテル化合物と水溶性アミノ化合物との塩の1種又は2種以上を含むことを特徴とする光反射性材料。(式中p,q,rはそれぞれ0〜10の整数で、m及びnは1〜10の整数であり、Rは水溶性アミノ化合物である。)

Claim (excerpt)：

下記一般式(1)〜(4)で表されるフッ素化アルキルポリエーテル化合物と水溶性アミノ化合物との塩の1種又は2種以上を含むことを特徴とする光反射性防止材料。【化1】(式中p,q,rはそれぞれ0〜10の整数で、m及びnは1〜10の整数であり、Rは水溶性アミノ化合物である。)

IPC (4)：

G03F 7/11 503 ,  C09D171/02 PLQ ,  H01L 21/027 ,  C09K 3/00