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J-GLOBAL ID：200903095149800979

ポジ型感光性樹脂組成物、パターンの製造法及び電子部品

Inventor： 佐々木 守 ,  布村 昌隆 ,  安斎 隆徳
Applicant, Patent owner： 日立化成デュポンマイクロシステムズ株式会社
Agent (1)： 高田 幸彦 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000148563
Publication number (International publication number)：2001194796
Application date： May. 19, 2000
Publication date： Jul. 19, 2001
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】i線に対する露光感度が高く、特に現像時に微細パターンの剥離の無い、耐熱性に優れるポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いたパターンの製造法の提供。【解決手段】(A)酸性基を有する重合体、(B)光により酸を発生する化合物及び(C)一般式(I)(lは1〜3、Rは炭素数1〜5のアルキル基、R’はH、炭素数1〜8のアルキル基等)の有機ケイ素化合物を含有するポジ型感光性樹脂組成物、パターンの製造法及び電子部品。

Claim (excerpt)：

(A)酸性基を有する重合体、(B)光により酸を発生する化合物及び(C)一般式(I)【化1】(式中、lは1〜3の整数、Rは炭素数1〜5のアルキル基、R’は水素原子、炭素数1〜8のアルキル基、水酸基、メルカプト基、炭素数1〜5のアルコキシ基を有するトリアルコキシシリル基、炭素数1〜5のアルキル基を有するトリアルキルシリル基又は一般式(II)【化2】で表される有機基を示す)で表される有機ケイ素化合物を含有してなるポジ型感光性樹脂組成物。

IPC (15)：

G03F 7/075 501 ,  C08K 5/28 ,  C08K 5/5419 ,  C08L 79/04 ,  C08L 79/08 ,  C08L101/02 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/022 ,  G03F 7/037 ,  G03F 7/037 501 ,  G03F 7/039 501 ,  G03F 7/039 601 ,  G03F 7/40 501 ,  H01L 21/027

FI (15)：

G03F 7/075 501 ,  C08K 5/28 ,  C08K 5/5419 ,  C08L 79/04 B ,  C08L 79/08 A ,  C08L101/02 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 Z ,  G03F 7/022 ,  G03F 7/037 ,  G03F 7/037 501 ,  G03F 7/039 501 ,  G03F 7/039 601 ,  G03F 7/40 501 ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (34)：

2H025AA00 ,  2H025AA10 ,  2H025AA14 ,  2H025AB15 ,  2H025AB16 ,  2H025AC01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE01 ,  2H025BG00 ,  2H025CB25 ,  2H025CB26 ,  2H025CB42 ,  2H025CC06 ,  2H025FA03 ,  2H025FA17 ,  2H025FA29 ,  2H096AA25 ,  2H096BA10 ,  2H096BA20 ,  2H096EA02 ,  2H096GA08 ,  2H096HA01 ,  2H096JA04 ,  4J002BC122 ,  4J002CC062 ,  4J002CM021 ,  4J002CM041 ,  4J002EB116 ,  4J002EQ016 ,  4J002EQ036 ,  4J002EV256 ,  4J002EX047 ,  4J002GP03