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J-GLOBAL ID:200903095160852000
収差測定装置、収差測定方法、光学系の調整方法、および該調整方法で調整された光学系を備えた露光装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
山口 孝雄
Gazette classification:再公表公報
Application number (International application number):JP2002009810
Publication number (International publication number):WO2003028073
Application date: Sep. 24, 2002
Publication date: Apr. 03, 2003
Summary:
蛍石などの結晶で形成された光学部材の複屈折に起因する光学系の残存収差を高精度に測定することのできる、収差測定装置。立方晶系に属する結晶で形成された光学部材を含む光学系(15)の収差を測定する収差測定装置。光学系に所定の光束を照射するための光束照射ユニット(1〜13)と、光学系を透過した光束に基づいて光学系の収差を計測するための収差計測ユニット(17)とを備えている。光束照射ユニットは、第1の方向に沿って偏光した第1の直線偏光と、第1の方向とほぼ直交する第2の方向に沿って偏光した第2の直線偏光との間で、所定の光束の偏光状態を切り換えるための偏光切換え手段を有する。
Claim (excerpt):
立方晶系に属する結晶で形成された光学部材を含む光学系の収差を測定する収差測定装置であって、
前記光学系に所定の光束を照射するための光束照射ユニットと、
前記光学系を透過した光束に基づいて前記光学系の収差を計測するための収差計測ユニットとを備え、
前記光束照射ユニットは、第1の方向に沿って偏光した第1の直線偏光と、前記第1の方向とは異なる第2の方向に沿って偏光した第2の直線偏光との間で、前記所定の光束の偏光状態を切り換えるための偏光切換え手段を有することを特徴とする収差測定装置。
IPC (3):
H01L21/027
, G01M11/02
, G03F7/20
FI (3):
H01L21/30 516A
, G01M11/02 B
, G03F7/20 521
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