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J-GLOBAL ID：200903095186611450

汚水処理装置

Inventor：
福本 明広

About 福本 明広

, 
小田 謙治

About 小田 謙治

, 
廣田 達哉

About 廣田 達哉


Applicant, Patent owner：
三洋電機株式会社

About 三洋電機株式会社


Agent (2)： 稲岡 耕作 ,  川崎 実夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004326702
Publication number (International publication number)：2006136767
Application date： Nov. 10, 2004
Publication date： Jun. 01, 2006
Summary：
【課題】汚水を確実に処理することができ、かつ、作業性の向上を図ることができる汚水処理装置を提供すること。 【解決手段】陽極側の電極板32に通電を行うと、その電極板32から正電位を有する金属イオンが溶出する。処理槽9に貯留された汚水には有機物などの汚れ成分が含まれているが、一般的に、その汚れ成分は負電位を有しているので、金属イオンに凝集され、金属水酸化物とともに沈殿することとなる。また、オゾン発生装置13においてオゾンが発生させられ、マイクロバブル発生装置12において、そのオゾンを用いてマイクロバブルが発生させられる。これにより、浮上分離槽11内に流入した汚れ成分等は、浮上分離槽11内において、マイクロバブルにより浮上分離される。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
汚水を貯留することのできる処理槽と、 上記処理槽内の水を電気分解するための電解装置と、 上記処理槽内の水の中に微細気泡を発生させるための微細気泡発生装置と、を備えることを特徴とする汚水処理装置。
IPC (6)：
C02F 1/46 ,  C02F 1/24 ,  C02F 1/50 ,  C02F 1/78 ,  C02F 1/463 ,  C02F 1/465
FI (15)：
C02F1/46 Z ,  C02F1/24 A ,  C02F1/50 510A ,  C02F1/50 520R ,  C02F1/50 531R ,  C02F1/50 540A ,  C02F1/50 550B ,  C02F1/50 550C ,  C02F1/50 550H ,  C02F1/50 550L ,  C02F1/50 560F ,  C02F1/50 560H ,  C02F1/50 560Z ,  C02F1/78 ,  C02F1/46 102
F-Term (45)：
4D037AA11 ,  4D037AB02 ,  4D037BA04 ,  4D037BA07 ,  4D037BB01 ,  4D037BB03 ,  4D037CA02 ,  4D037CA04 ,  4D037CA07 ,  4D037CA08 ,  4D037CA12 ,  4D037CA16 ,  4D050AA17 ,  4D050AB03 ,  4D050AB04 ,  4D050AB06 ,  4D050BB02 ,  4D050BD03 ,  4D050BD04 ,  4D050BD06 ,  4D050BD08 ,  4D050CA04 ,  4D050CA10 ,  4D050CA15 ,  4D050CA16 ,  4D050CA17 ,  4D061DA08 ,  4D061DB11 ,  4D061DB15 ,  4D061DC06 ,  4D061EA02 ,  4D061EA08 ,  4D061EB04 ,  4D061EB14 ,  4D061EB27 ,  4D061EB28 ,  4D061EB39 ,  4D061ED03 ,  4D061ED06 ,  4D061FA04 ,  4D061FA10 ,  4D061FA13 ,  4D061FA14 ,  4D061FA15 ,  4D061GC11
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (2)

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