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J-GLOBAL ID：200903095199562564

緑化用基盤及び植栽方法

Inventor： 本田 哲 ,  若宮 隆 ,  滝川 英昭 ,  岡本 健久 ,  松本 誠司
Applicant, Patent owner： 生活価値創造住宅開発技術研究組合
Agent (1)： 重野 剛
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000354386
Publication number (International publication number)：2002153119
Application date： Nov. 21, 2000
Publication date： May. 28, 2002
Summary：

【要約】【課題】 土壌を使用することなく、任意の緑化対象に植物を生育させることができ、軽量で自己形状保持性、耐久性、取り扱い性、現場施工性等に優れた緑化用基盤と、この緑化用基盤を用いた植栽方法を提供する。【解決手段】 SiO2、Al2O3及びCaOを主成分とする原料を、700〜1200°Cの温度で焼成して発泡させることにより、連続気孔を形成してなるセラミック多孔体3よりなる緑化用基盤1。この緑化用基盤1の表層に直接植物4を生育させる植栽方法。

Claim (excerpt)：

SiO2、Al2O3及びCaOを主成分とする原料を700〜1200°Cで焼成し発泡させて、連続気孔を形成したセラミック多孔体よりなる緑化用基盤。

IPC (4)：

A01G 1/00 301 ,  A01G 1/00 303 ,  A01G 7/00 602 ,  E02D 17/20 102

FI (4)：

A01G 1/00 301 C ,  A01G 1/00 303 A ,  A01G 7/00 602 C ,  E02D 17/20 102 B

F-Term (5)：

2B022AB02 ,  2B022AB04 ,  2B022BA01 ,  2B022BB02 ,  2D044DA15

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

• 無土壌植栽用セラミックブロック及びその使用方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-264425   Applicant：イソライト工業株式会社
• 特開平2-177818
  
• 植物育成用人工土壌及び植物育成用人工土壌製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-052329   Applicant：ミサワホーム株式会社
• 屋上構造体
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-319211   Applicant：東レ株式会社
• 敷設面又は法面又は土留め面又は壁面用のデザインブロック
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-140346   Applicant：草竹杉晃
• 生態系の共生を目的とした多孔質セラミックス
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-027845   Applicant：東横企画株式会社, 共和コンクリート工業株式会社