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J-GLOBAL ID:200903095209466755
磁気記録媒体の製造法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
藤盛 道夫
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994060265
Publication number (International publication number):1995244831
Application date: Mar. 04, 1994
Publication date: Sep. 19, 1995
Summary:
【要約】【目的】 コバルト合金系の垂直磁気異方性薄膜を基板上にスパッタ堆積して成る磁気記録媒体の製造において、スパッタガス圧力を低圧力に、基板温度を低温域にすることによって、上記製造に諸効果をもたらそうとするものである。【構成】 コバルトを母相とする合金系材料から成る垂直磁気異方性薄膜を基板上にスパッタ堆積して成る磁気記録媒体の製造において、基板上に結晶配向促進層を設け、スパッタガス圧力を10Pa以上とし、基板温度を室温以上100°Cとして垂直磁気異方性薄膜をスパッタ堆積するものである。
Claim (excerpt):
コバルトを母相とする合金系材料から成る垂直磁気異方性薄膜を、基板上にスパッタ堆積して成る磁気記録媒体を製造する方法において、前記基板上に予め結晶配向促進層を設け、スパッタガス圧力を10Pa以上として該結晶配向促進層を介して、前記垂直磁気異方性薄膜をスパッタ堆積することを特徴とする磁気記録媒体の製造法。
Patent cited by the Patent: